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GB/T 12085.2-2022 光學(xué)和光子學(xué)環(huán)境試驗(yàn)方法第2部分:低溫、高溫、濕熱

時(shí)間:2023-05-23    來(lái)源:    作者:儀多多網(wǎng)     


本文件按照GB/T1.1-2020《標(biāo)準(zhǔn)化工作導(dǎo)則第1部分:標(biāo)準(zhǔn)化文件的結(jié)構(gòu)和起草規(guī)則》的規(guī)定起草。

本文件為GB/T12085《光學(xué)和光子學(xué)環(huán)境試驗(yàn)方法》的第2部分。GB/T12085已經(jīng)發(fā)布了以下部分:

——第1部分:術(shù)語(yǔ)、試驗(yàn)范圍;

——第2部分:低溫、高溫、濕熱;

——第3部分:機(jī)械作用力;

——第4部分:鹽霧;

——第6部分:砂塵;

——第7部分:滴水、淋雨;

——第8部分:高內(nèi)壓、低內(nèi)壓、浸沒(méi);

——第9部分:太陽(yáng)輻射與風(fēng)化;

——第11部分:長(zhǎng)霉;

——第12部分:污染;

——第14部分:露、霜、冰;

——第17部分:污染、太陽(yáng)輻射綜合試驗(yàn);

——第20部分:含二氧化硫、硫化氫的濕空氣;

——第22部分:低溫、高溫或溫度變化與碰撞或隨機(jī)振動(dòng)綜合試驗(yàn);

——第23部分:低壓與低溫、大氣溫度、高溫或濕熱綜合試驗(yàn)。

本文件代替GB/T12085.2-2010《光學(xué)和光學(xué)儀器環(huán)境試驗(yàn)方法第2部分:低溫、高溫、濕熱》。與GB/T12085.2-2010相比,除結(jié)構(gòu)調(diào)整和編輯性改動(dòng)外,主要技術(shù)變化如下:

——將全文中“光學(xué)儀器”更改為“光學(xué)和光子學(xué)儀器”;

——更改了“范圍”的適用界限(見(jiàn)第1章,2010年版的第1章);

——增加了警告內(nèi)容(見(jiàn)第4章);

——更改了環(huán)境試驗(yàn)標(biāo)記內(nèi)容(見(jiàn)第7章,2010年版的第6章)。

本文件修改采用ISO9022-2:2015《光學(xué)和光子學(xué)環(huán)境試驗(yàn)方法第2部分:低溫、高溫、濕熱》。

本文件與ISO9022-2:2015相比做了下述結(jié)構(gòu)調(diào)整:

——本文件增加了“術(shù)語(yǔ)和定義”一章。本文件與ISO9022-2:2015的技術(shù)差異及其原因如下:

——將全文中“光學(xué)儀器”更改為“光學(xué)和光子學(xué)儀器”,以符合光學(xué)行業(yè)應(yīng)用領(lǐng)域的要求;

——用規(guī)范性引用的GB/T12085.1代替了ISO9022-1(見(jiàn)6.1、第7章),以適應(yīng)我國(guó)的技術(shù)條件,提高可操作性。

本文件做了下列編輯性改動(dòng):

——將表1中“一-0±3”更改為“0±3”,以符合我國(guó)標(biāo)準(zhǔn)用語(yǔ)習(xí)慣;

——更改了表3和表4中氣候條件表示方法;

——增加了標(biāo)引序號(hào)說(shuō)明;

——第7章中用資料性引用的GB/T 12085(所有部分)替換了ISO9022;

——增加了參考文獻(xiàn)。

請(qǐng)注意本文件的某些內(nèi)容可能涉及專(zhuān)利。本文件的發(fā)布機(jī)構(gòu)不承擔(dān)識(shí)別專(zhuān)利的責(zé)任。

本文件由中國(guó)機(jī)械工業(yè)聯(lián)合會(huì)提出。本文件由全國(guó)光學(xué)和光子學(xué)標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)(SAC/TC103)歸口。

本文件起草單位:寧波湛京光學(xué)儀器有限公司、重慶銀河試驗(yàn)儀器有限公司、廣東科鑒檢測(cè)工程技術(shù)有限公司、天津航天瑞萊科技有限公司、上海理工大學(xué)、谷東科技有限公司、梧州奧卡光學(xué)儀器有限公司、麥克奧迪實(shí)業(yè)集團(tuán)有限公司、合肥知常光電科技有限公司、上海千欣儀器有限公司、上海雄博精密儀器股份有限公司、寧波舜宇儀器有限公司、寧波華光精密儀器有限公司、廣州粵顯光學(xué)儀器有限責(zé)任公司、寧波永新光學(xué)股份有限公司、南京東利來(lái)光電實(shí)業(yè)有限責(zé)任公司、寧波市教學(xué)儀器有限公司、蘇州慧利儀器有限責(zé)任公司、南京江南永新光學(xué)有限公司、上海光學(xué)儀器研究所。

本文件主要起草人:干林超、李書(shū)山、高軍、楊立偉、張薇、崔海濤、張韜、楊澤聲、吳周令、華越、姜冠祥、胡森虎、孔燕波、李彌高、毛磊、洪宜萍、王國(guó)瑞、韓森、李晞、馮瓊輝。

本文件及其所代替文件的歷次版本發(fā)布情況為:

——1989年首次發(fā)布為GB12085.2-1989,2010年第一次修訂;

——本次為第二次修訂。




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