本文件按照GB/T1.1-2020《標(biāo)準(zhǔn)化工作導(dǎo)則第1部分：標(biāo)準(zhǔn)化文件的結(jié)構(gòu)和起草規(guī)則》的規(guī)定起草。

本文件是GB/T12085《光學(xué)和光子學(xué)環(huán)境試驗(yàn)方法》的第1部分。GB/T12085已經(jīng)發(fā)布了以下部分：

——第1部分：術(shù)語(yǔ)、試驗(yàn)范圍；

——第2部分：低溫、高溫、濕熱；

——第3部分：機(jī)械作用力；

——第4部分：鹽霧；

——第6部分：砂塵；

——第7部分：滴水、淋雨；

——第8部分：高內(nèi)壓、低內(nèi)壓、浸沒(méi)；

——第9部分：太陽(yáng)輻射與風(fēng)化；

——第11部分：長(zhǎng)霉；

——第12部分：污染；

——第14部分：露、霜、冰；

——第17部分：污染、太陽(yáng)輻射綜合試驗(yàn)；

——第20部分：含二氧化硫、硫化氫的濕空氣；

——第22部分：低溫、高溫或溫度變化與碰撞或隨機(jī)振動(dòng)綜合試驗(yàn)；

——第23部分：低壓與低溫、大氣溫度、高溫或濕熱綜合試驗(yàn)。

本文件代替GB/T12085.1-2010《光學(xué)和光學(xué)儀器環(huán)境試驗(yàn)方法第1部分：術(shù)語(yǔ)、試驗(yàn)范圍》，與GB/T12085.1-2010相比，除結(jié)構(gòu)調(diào)整和編輯性改動(dòng)外，主要技術(shù)變化如下：

——更改了范圍內(nèi)容（見(jiàn)第1章，見(jiàn)2010年版的第1章）；

——增加了“電氣（包括靜電）”（見(jiàn)3.1）；

——更改了部分術(shù)語(yǔ)和定義內(nèi)容（見(jiàn)3.1、3.2、3.8、3.8.2、3.8.3、3.8.3.1，2010年版的2.1、2.2、2.8、2.8.2、2.8.3、2.8.3.1);

——?jiǎng)h除了3.11定義中的“這應(yīng)由合同雙方達(dá)成協(xié)議”（見(jiàn)3.11，2010年版的2.11）。

本文件修改采用ISO9022-1：2016《光學(xué)和光子學(xué)環(huán)境試驗(yàn)方法第1部分：術(shù)語(yǔ)、試驗(yàn)范圍》。

本文件與ISO9022-1：2016相比做了下列結(jié)構(gòu)調(diào)整：

——增加了“規(guī)范性引用文件”

——章；

——第3章對(duì)應(yīng)ISO9022-1：2016的第2章；

——第4章對(duì)應(yīng)ISO9022-1：2016的第3章；

——第5章對(duì)應(yīng)ISO9022-1：2016的第4章；

——增加了附錄A的條號(hào)。

本文件與ISO9022-1：2016的技術(shù)差異及其原因如下：

——更改了第1章范圍的內(nèi)容，以符合我國(guó)標(biāo)準(zhǔn)用語(yǔ)習(xí)慣；

——更改了國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)2.1和2.8.2中的定義內(nèi)容，以符合我國(guó)標(biāo)準(zhǔn)用語(yǔ)習(xí)慣；

——將國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)中2.2術(shù)語(yǔ)和許用術(shù)語(yǔ)合并為術(shù)語(yǔ)“光學(xué)和光子學(xué)儀器”，有利于名稱統(tǒng)一。

本文件做了下列編輯性改動(dòng)：

——?jiǎng)h除了國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)2.2、2.5中的示例；

——附錄A中用修改采標(biāo)的GB/T12085代替ISO9022，更改了附錄A中條件試驗(yàn)方法36、37的名稱。

請(qǐng)注意本文件的某些內(nèi)容可能涉及專利。本文件的發(fā)布機(jī)構(gòu)不承擔(dān)識(shí)別專利的責(zé)任。

本文件由中國(guó)機(jī)械工業(yè)聯(lián)合會(huì)提出。本文件由全國(guó)光學(xué)和光子學(xué)標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)（SAC/TC103）歸口。

本文件起草單位：上海理工大學(xué)、重慶銀河試驗(yàn)儀器有限公司、重慶阿泰可科技股份有限公司、江蘇曙光光電有限公司、合肥知常光電科技有限公司、南京波長(zhǎng)光電科技股份有限公司、梧州奧卡光學(xué)儀器有限公司、麥克奧迪實(shí)業(yè)集團(tuán)有限公司、江西鳳凰光學(xué)科技有限公司、天津航天瑞萊科技有限公司、上海千欣儀器有限公司、中電科思儀科技股份有限公司、上海雄博精密儀器股份有限公司、寧波湛京光學(xué)儀器有限公司、寧波舜宇儀器有限公司、寧波華光精密儀器有限公司、寧波永新光學(xué)股份有限公司、南京東利來(lái)光電實(shí)業(yè)有限責(zé)任公司、蘇州慧利儀器有限責(zé)任公司、上海唯視銳光電技術(shù)有限公司、寧波市教學(xué)儀器有限公司、南京江南永新光學(xué)有限公司、上海光學(xué)儀器研究所。

本文件主要起草人：張薇、李書(shū)山、陳文、孫琳、吳周令、王國(guó)力、張韜、楊澤聲、高波、王新、華越、陳坤峰、姜冠祥、鮑金權(quán)、胡森虎、孔燕波、毛磊、洪宜萍、韓森、王蔚生、王國(guó)瑞、李晞、馮瓊輝。

本文件及其所代替文件的歷次版本發(fā)布情況為：

——1989年首次發(fā)布為GB/T12085.1-1989，2010年第一次修訂；

——本次為第二次修訂。

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