重大建設(shè)項目檔案驗收辦法為加強(qiáng)重大建設(shè)項目檔案管理工作，確保重大建設(shè)項目檔案的完整、準(zhǔn)確、系統(tǒng)和安全。財政部統(tǒng)一組織指導(dǎo)重大專項的項目(課題)財務(wù)驗收工作，并負(fù)責(zé)對財務(wù)驗收工作進(jìn)行監(jiān)督檢查。

根據(jù)政府采購有關(guān)規(guī)定，組織確定會計師事務(wù)所。根據(jù)有關(guān)規(guī)定對牽頭單位組織開展的財務(wù)驗收工作及其結(jié)果，組織開展財務(wù)驗收抽查工作。牽頭單位負(fù)責(zé)相應(yīng)重大專項項目(課題)財務(wù)驗收的組織管理工作。牽頭單位財務(wù)部門會同專項實施管理辦公室具體負(fù)責(zé)組織財務(wù)驗收工作。驗收工作可以通過組織財務(wù)驗收專家組和按規(guī)定委托會計師事務(wù)所等專業(yè)機(jī)構(gòu)進(jìn)行。

2020年8月下旬，國家自然科學(xué)基金國家重大科研儀器設(shè)備研制專項“1.5米掃描干涉場曝光系統(tǒng)”接受了專家組的項目驗收。驗收專家組對儀器技術(shù)指標(biāo)進(jìn)行了現(xiàn)場實地考察和儀器測試,對項目技術(shù)文件檔案及歸檔情況、相關(guān)賬務(wù)報告等進(jìn)行了審核。經(jīng)質(zhì)詢和討論，一致同意項目通過驗收。 該項目通過了技術(shù)檔案和財務(wù)驗收工作。

專項研制的儀器設(shè)備包括一臺1.5米掃描干涉場曝光系統(tǒng)及四臺制作全息光柵所需的輔助工藝設(shè)備。該項目主要面向高能拍瓦激光輸出技術(shù)、激光慣性約束核聚變研究及高端光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)等戰(zhàn)略高科技領(lǐng)域?qū)Υ竺娣e全息光柵的迫切需求，研制了1.5米掃描干涉場曝光系統(tǒng)，其目標(biāo)是具備以步進(jìn)掃描多線曝光方式制作500mm×1500mm全息光柵的能力。

經(jīng)過7年的攻關(guān)，項目組通過解決和突破長程重載工作臺超精密定位、曝光干涉場超精密測量及相位鎖定等十幾項基礎(chǔ)問題和關(guān)鍵技術(shù)，研制出了擁有制作最大面積650mm×1700mm單體無拼縫全息光柵能力的掃描干涉場曝光系統(tǒng)。

該項目的順利實施與驗收，標(biāo)志著我國具備了獨立制作米級單體無拼縫全息光柵的能力，打破了由國外長期壟斷的局面，對高能激光、可控核聚變、高端光刻等領(lǐng)域的技術(shù)與產(chǎn)業(yè)推進(jìn)具有重大的戰(zhàn)略意義。

在掃描干涉場曝光系統(tǒng)中,曝光光斑尺寸對干涉條紋的拼接精度,光柵制作效率以及制作出光柵的質(zhì)量有著十分重要的影響。為獲取合理的曝光光斑尺寸,本文根據(jù)高斯光束的傳輸規(guī)律以及掃描拼接數(shù)學(xué)模型,通過數(shù)值模擬的方法,系統(tǒng)的討論了曝光光斑尺寸對干涉條紋非線性誤差、刻線拼接誤差與曝光對比度等關(guān)鍵參數(shù)的影響。

該項目擬通過干涉場步進(jìn)掃描曝光方式，獲得具有國際先進(jìn)水平的大面積高精度全息光柵，進(jìn)而滿足深空探測、激光慣性約束核聚變等科學(xué)研究對特種光柵的戰(zhàn)略需求。項目將突破精密光機(jī)結(jié)構(gòu)加工、測量及系統(tǒng)裝調(diào)技術(shù)，干涉場測量及相位鎖定技術(shù)，關(guān)鍵環(huán)境控制技術(shù)等多項關(guān)鍵技術(shù)。

掃描干涉場曝光系統(tǒng)干涉條紋測量與調(diào)整方法

系統(tǒng)的基本工作原理為兩束小尺寸的高斯光束在光柵基底表面形成干涉場，光柵基底置于二維工作臺上隨之進(jìn)行二維運(yùn)動，從而曝光得到大尺寸的全息光柵。掃描干涉場曝光系統(tǒng)本質(zhì)上是通過動態(tài)掃描、步進(jìn)拼接的方式曝光拼接得到全息光柵，干涉場中的干涉條紋的形態(tài)會以能量積分的形式記錄至光刻膠上，干涉條紋的形態(tài)會直接或間接影響全息曝光對比度及刻線誤差。掃描干涉場曝光系統(tǒng)中干涉條紋方向與掃描方向之間的夾角對掃描曝光對比度的影響，于基準(zhǔn)光柵的干涉條紋方向調(diào)整方法。

掃描干涉場曝光系統(tǒng)中干涉條紋周期精確測量方法

掃描干涉場曝光系統(tǒng)中的干涉條紋周期是相位鎖定系統(tǒng)的重要參數(shù),為精確測量干涉條紋周期,根據(jù)掃描干涉場曝光系統(tǒng)的特點提出了分束棱鏡移動測量干涉條紋周期的方法,根據(jù)高斯光束傳播理論,分析了該方法的理論誤差;提出了周期計數(shù)法對周期測量數(shù)據(jù)進(jìn)行計算。為降低對系統(tǒng)二維工作臺運(yùn)行及穩(wěn)定精度的要求,提出了小行程高精度位移臺輔助測量周期的方法,并進(jìn)行了相關(guān)實驗驗證。

結(jié)果表明:小行程位移臺輔助周期測量方法在原理上可行,對于干涉條紋線密度1800 line/mm的系統(tǒng)參數(shù),小行程位移臺輔助周期測量的重復(fù)性可達(dá)到1.08×10-5(σ值),曝光實驗的實測值與理論模型之間一致性較好,驗證了該周期測量方法的可行性。

掃描干涉場曝光光束自動對準(zhǔn)及其收斂性分析

光束自動對準(zhǔn)技術(shù)是掃描干涉場曝光系統(tǒng)中的關(guān)鍵技術(shù)之一,兩曝光光束位置與角度的重合程度直接影響所制作光柵掩模的槽型質(zhì)量。針對光束對準(zhǔn)過程中光束調(diào)整的兩個運(yùn)動維度之間存在相互耦合的情況,推導(dǎo)了存在耦合時對準(zhǔn)算法的收斂條件,并分析了光路中反射鏡與解耦平面之間存在的裝調(diào)誤差對對準(zhǔn)性能的影響。

分析得出,裝調(diào)誤差降低了光束對準(zhǔn)系統(tǒng)性能,甚至導(dǎo)致對準(zhǔn)算法發(fā)散,通過調(diào)節(jié)光路中反射鏡M_2和解耦平面的距離L_2與反射鏡M_1和解耦平面的距離L_1的比值L_2/L_1可以優(yōu)化系統(tǒng)的收斂性能。實驗結(jié)果表明,當(dāng)L_2/L_1較大時對準(zhǔn)系統(tǒng)調(diào)節(jié)性能較差,收斂速率較低;當(dāng)L_2/L_1較小時光束對準(zhǔn)系統(tǒng)可以快速地收斂到目標(biāo)位置,有效地對光束進(jìn)行對準(zhǔn)調(diào)節(jié)。推導(dǎo)證明與模擬分析可為光束對準(zhǔn)系統(tǒng)以及整個曝光光路的設(shè)計提供理論指導(dǎo)。

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